Intel desmiente los reciente rumores y confirma que tendrá sus 10nm para junio

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Intel no esta pasando por un buen momento con múltiples problemas en varios frentes, algo que Bob Swan su nuevo CEO esta tratando de atajar de la manera más rápida posible, en este sentido hemos tenido recientes declaraciones del CEO de la compañía durante la conferencia de inversores de este año, un evento importante para Intel.

Durante dicho evento Bob Swan desmintió categóricamente los recientes rumores que apuntaban (una vez más) a nuevos retrasos con los silicios de 10nm, algo que según Swan es completamente falso, Intel tiene todo listo para lanzar al mercado sus primeros chips a 10nm este mes de junio sin ir más lejos.

El nodo de 10nm tendrá solo 3 iteraciones y será sustituido relativamente pronto por le de 7nm que curiosamente no le esta dando demasiados problemas al contrario que el de 10nm a pesar de que obviamente es aun más pequeño, por lo que a medio largo plazo parece que Intel va a postar por su nodo de 7nm.

Según Swan, tendremos los primeros Ice Lake a 10nm este mes de junio, tras lo cual veremos una nueva iteración a 10nm+ para aproximadamente el 2020 y por último un nodo a 10nm “++” para el 2021, al parecer en 2021 se solaparán ambos nodos el de 10 y el 7nm en el mercado, será interesante ver eso.

Intel-Presentacion-10nm-7nm-futuro-de-la-compaia-in4-noticias-granada-
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Sin pelos en la lengua.

El nuevo CEO de Intel puede ser muchas cosas pero habla claro más claro que el agua, una virtud extraña en este tipo de cargos, durante la conferencia de inversores a su vez, indico que efectivamente han perdido el liderazgo en la fabricación de chips y que su rival es claramente TSMC y aunque no lo mencionó Samsung también se les ha puesto por delante y es un competidor no menor precisamente, de hecho los tiempos coinciden ya que para el año 2021 TSMC ya debería estar produciendo a pleno rendimiento chips a 5nm por lo que tiene perfecto sentido que Intel este acelerando su nodo a 7nm todo lo puede.

Sobre el nodo a 7nm también comentó que la intención de Intel es emplearlo durante varios años pues se va a fabricar con una tecnología completamente distinta conocida como litografía EUV la cual promete mucho logrando una densidad de transistores brutal doblando a la actual de 10nm, que se dice pronto.

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